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标题: (VIP)清华大学SSMB-EUV光刻机方案突破,用大型“光刻厂”替代ASML的小型光刻机,功率达EUV光刻机的40倍,可支持数十条芯片生产线同时工作,印网民热议
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发布时间: 2023-09-16 09:47:20
信息简介: 清华大学获得重大突破,SSMB-EUV项目,光源功率是EUV光刻机的40倍。ASML建造的是一台光刻机,而中国正在建造一家光刻厂,可支持数十条芯片生产线同时工作,同时生产从1到100纳米的各种制程的芯片

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