现在的位置：首页 > 会员中心 > 查看信息：(V)发明专利都公布了，中国披露“极紫外光刻设备”的关键技术，光刻机迎来里程碑式进步，中国官宣高端氟化氩光刻机正式投产 提示信息 您还未登陆，点击这里进行登陆操作；注册请点击这里。 标题： (V)发明专利都公布了，中国披露“极紫外光刻设备”的关键技术，光刻机迎来里程碑式进步，中国官宣高端氟化氩光刻机正式投产 查看权限： 需要 [VIP会员] 级别以上才能查看。 发布时间： 2024-09-15 15:03:08 信息简介： 连发明专利都公布了！中国披露“极紫外光刻设备”的关键技术，光刻机迎来里程碑式进步。犹如一颗重磅炸弹，激起了全球科技街的波澜。印网民：印度应立即开始研究关键的芯片技术